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RTP 双腔
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RTP200-BP2
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RTP200-BP2是一款全自动双腔RTP设备,主要工艺涵盖离子注入激活、掺杂退火、RTO、RTN等,应用领域包含Si基工艺、化合物(包含GaN&GaAs&SiC)、MEMS等。采用卤素灯管加热,每根灯管输出功率单独控制。
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6&8英寸兼容。
最高温度可达1200°C。
PID精确控温。
全自动双腔设计,产能大幅提升。
满足Si&SiC量产化制程需求。
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