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RTP 单腔
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RTP200-BP1
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RTP200-BP1是一款单腔RTP设备,工艺涵盖了离子注入激活、金属合金、多晶硅退火、RTO、RTN等快速热处理应用领域包含Si基工艺、化合物(包含GaN&GaAs&SiC)、MEMS等。采用卤素灯管加热,每根灯管可单独控制。
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6&8英寸兼容。
PID精确控温。
最高温度可达1200°C。
满足Si&SiC量产化制程需求。
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